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A Mitsui Chemicals anunciou nesta segunda-feira (9) a compra da JSR, fabricante de fotoresistores para litografia EUV, por 1,84 trilhão de ienes (US$ 11,6 bilhões), na maior aquisição do setor químico japonês.
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Dois laboratórios nacionais do Departamento de Energia dos EUA e o centro de pesquisa NY Creates lançaram um programa-piloto para acelerar o desenvolvimento de chips avançados, com foco em litografia EUV de alta abertura e metrologia por raios X.
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Na China International Industry Fair, a Langdao Silex mostrou um sistema de fonte de luz EUV com mais de 15 W de saída e 90% de conteúdo doméstico. Produção em massa ainda está a 3-5 anos.
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Langdao Silex EUV mostra protótipo de fonte de luz com 90% de componentes locais na feira de Xangai, avançando a autossuficiência chinesa em litografia.
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ASML Q3 2026 bate recorde de €11,7 bilhões em vendas, mas alerta que não conseguirá atender toda a demanda de equipamentos para IA em 2027 e 2028.
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A fabricante holandesa de equipamentos de litografia afirma que, mesmo com expansões planejadas de 30%, não conseguirá atender totalmente a demanda impulsionada por investimentos em inteligência artificial.
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Categorias: Tecnologia
Christophe Fouquet, da ASML, afirma à Financial Times que o efeito da IA na indústria ainda é só a ponta do iceberg e alerta que restrições excessivas à China podem criar concorrentes.
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