上海一家创业公司在中国寻求芯片制造设备独立方面迈出了具体一步。Langdao Silex在中国国际工业博览会上展示了极紫外（EUV）光源原型——这一组件常被称为用于制造先进芯片的EUV光刻机的“心脏”。
根据解放日报的报道以及TrendForce和Tom’s Hardware的报道，系统约90%的组件为国产，大多数核心零件由内部开发。该原型采用激光等离子体（LPP）技术，类似于领先国际供应商采用的技术，并已可用于曝光测试。
公布规格
公司为FlintNano LPP-OXXO型号发布的信息包括：
- 1000W驱动激光器
- 重复频率为1至20 kHz
- 转换效率超过2%
- EUV输出超过15W
- 连续运行超过100小时
现场工作人员表示，大规模生产仍需3至5年。主要挑战是提高输出功率和改善长期稳定性。仅光源并不构成完整的EUV扫描仪：精密光学、晶圆台和系统集成仍需重大进展。
为什么重要
自美国和荷兰出口限制以来，中国无法从ASML获得EUV机器。在本地开发EUV光源——系统中最复杂且最昂贵的部分——是半导体自给自足战略中的象征性里程碑。即使通往完整商业扫描仪的路径较长，该原型也展示了在一个被视为极其困难的领域中可测量的进展。
对于硬件和AI生态系统而言，中国在EUV光刻方面的进展对全球先进芯片生产能力具有长期影响。
来源
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