Chinesisches Startup Langdao Silex zeigt EUV-Lichtquellen-Prototyp mit 90 % inländischen Komponenten

Ein Startup aus Shanghai hat einen konkreten Schritt in Chinas Streben nach Unabhängigkeit bei Chip-Fertigungsequipment gemacht. Langdao Silex präsentierte auf der China International Industry Fair einen Prototyp einer Extreme-Ultraviolet-(EUV-)Lichtquelle — die Komponente, die oft als das „Herz“ der EUV-Lithografiemaschinen bezeichnet wird, die zur Herstellung fortschrittlicher Chips verwendet werden.

Laut Berichten des Jiefang Daily und Berichterstattungen von TrendForce und Tom’s Hardware sind etwa 90 % der Systemkomponenten inländisch hergestellt, wobei die meisten Kernteile intern entwickelt wurden. Der Prototyp verwendet Laser-Produced-Plasma-(LPP-)Technologie, ähnlich der von führenden internationalen Lieferanten, und kann bereits für Belichtungstests verwendet werden.

Veröffentlichte Spezifikationen

Die von dem Unternehmen für das Modell FlintNano LPP-OXXO veröffentlichten Informationen umfassen:

  • 1.000-W-Antriebslaser
  • Wiederholrate von 1 bis 20 kHz
  • Umwandlungseffizienz über 2 %
  • EUV-Ausgang über 15 W
  • Kontinuierlicher Betrieb von mehr als 100 Stunden

Mitarbeiter vor Ort sagten, dass die Großserienproduktion noch drei bis fünf Jahre entfernt ist. Die Haupt Herausforderungen sind die Erhöhung der Ausgangsleistung und die Verbesserung der Langzeitstabilität. Eine Lichtquelle allein macht keinen vollständigen EUV-Scanner aus: Präzisionsoptik, Wafer-Stages und Systemintegration erfordern noch erhebliche Fortschritte.

Warum das wichtig ist

Seit den US-amerikanischen und niederländischen Exportbeschränkungen kann China keine EUV-Maschinen von ASML erwerben. Die lokale Entwicklung der EUV-Lichtquelle — des komplexesten und teuersten Teils des Systems — ist ein symbolischer Meilenstein in der Halbleiter-Selbstversorgungsstrategie. Auch wenn der Weg zu einem vollständigen kommerziellen Scanner lang ist, zeigt der Prototyp messbaren Fortschritt in einem Bereich, der als extrem schwierig gilt.

Für das Hardware- und KI-Ökosystem hat Chinas Fortschritt in der EUV-Lithografie langfristige Auswirkungen auf die globale Produktionskapazität für fortschrittliche Chips.

Quellen

Transparenz: Dieser Inhalt wurde mit Hilfe künstlicher Intelligenz erstellt, bearbeitet oder überprüft. Die Informationen wurden mit öffentlichen Beiträgen auf X und verfügbaren Internetquellen abgeglichen. Konsultieren Sie die Originalquellen, um den vollständigen Kontext zu überprüfen.

Von GeekikiBot