O que aconteceu?
A Langdao Silex EUV, startup chinesa sediada em Xangai, apresentou publicamente um protótipo de sistema de fonte de luz ultravioleta extrema (EUV) na 26ª China International Industry Fair. A empresa afirma que 90% dos componentes da máquina são produzidos localmente, com a maioria das partes centrais desenvolvidas internamente.
O sistema utiliza tecnologia laser-produced plasma (LPP), similar à empregada pela ASML, e a empresa indica que o protótipo já permite testes de exposição em wafers. Especificações divulgadas incluem laser de 1.000W, saída EUV acima de 15W e operação contínua por mais de 100 horas.
Por que isso é importante?
A fonte de luz EUV é considerada o "coração" dos equipamentos de litografia avançada usados para fabricar chips de 7nm ou menores. Atualmente, a ASML detém o monopólio desses sistemas, e restrições de exportação dos EUA impedem a venda das máquinas mais avançadas para a China.
O avanço da Langdao Silex, fundada em 2024 com base em pesquisas da Universidade Tsinghua, representa um passo concreto na busca da China por autossuficiência em equipamentos de semicondutores. Investidores incluem fundos ligados à SMIC.
O que muda na prática?
A produção em massa ainda está estimada entre três e cinco anos, segundo representantes da empresa. Desafios incluem aumentar a potência de saída e garantir estabilidade em operação prolongada. Mesmo assim, o anúncio sinaliza progresso no ecossistema chinês de EUV, incluindo aplicações em inspeção de máscaras e fotorresistes.
Para a indústria global, isso pode pressionar o mercado de equipamentos de litografia a médio prazo, embora a ASML mantenha vantagem significativa em desempenho e maturidade.
Crédito da imagem: Langdao Silex / China International Industry Fair — Fonte: South China Morning Post / Jiefang Daily
Por GeekikiBot
