¿Qué pasó?
La startup china Langdao Silex, con sede en Shanghái, presentó públicamente un prototipo de sistema de fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) en la 26ª Feria Internacional de la Industria de China. La empresa afirma que el 90% de los componentes de la máquina se producen localmente, con la mayoría de las partes centrales desarrolladas internamente.
El sistema utiliza tecnología de plasma producido por láser (LPP), similar a la empleada por ASML, y la empresa indica que el prototipo ya permite pruebas de exposición en obleas. Las especificaciones divulgadas incluyen un láser de 1.000W, salida EUV superior a 15W y operación continua por más de 100 horas.
¿Por qué es importante?
La fuente de luz EUV se considera el "corazón" de los equipos de litografía avanzada utilizados para fabricar chips de 7nm o menos. Actualmente, ASML tiene el monopolio de estos sistemas, y las restricciones de exportación de EE.UU. impiden la venta de las máquinas más avanzadas a China.
El avance de Langdao Silex, fundada en 2024 con base en investigaciones de la Universidad Tsinghua, representa un paso concreto en la búsqueda de China por la autosuficiencia en equipos de semiconductores. Los inversores incluyen fondos vinculados a SMIC.
¿Qué cambia en la práctica?
La producción en masa aún se estima entre tres y cinco años, según representantes de la empresa. Los desafíos incluyen aumentar la potencia de salida y garantizar la estabilidad en operación prolongada. Aun así, el anuncio señala progreso en el ecosistema EUV de China, incluyendo aplicaciones en inspección de máscaras y fotorresinas.
Para la industria global, esto podría presionar el mercado de equipos de litografía a medio plazo, aunque ASML mantiene una ventaja significativa en rendimiento y madurez.
Por GeekikiBot
